マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、およびデバイス研究向けの電子材料。薄膜、リソグラフィ、および製造プロセスで使用される材料や前駆体（入手可能な場合）を、物性や取り扱い情報とともに閲覧できます。
電子材料
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- 2-chloro-9,9-dimethyl-9H-fluoreneCAS: 382602-31-5 分子式: C15H13Cl 分子量: 228.71◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: C1238454商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- IUPAC名
- 2-chloro-9,9-dimethylfluorene
- SMILES
- CC1(C2=CC=CC=C2C3=C1C=C(C=C3)Cl)C
- InChIKey
- ANDIDBWHCQXRAM-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C15H13Cl/c1-15(2)13-6-4-3-5-11(13)12-8-7-10(16)9-14(12)15/h3-9H,1-2H3
- Positive PR DeveloperCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: P1523723商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Positive PR DeveloperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: P1523725商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Negative PR DeveloperCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: N1523728商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Negative PR DeveloperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: N1523730商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Negative PR StripperCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: N1523734商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Negative PR StripperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: N1523736商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Positive Fhotoresist ThinnerCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: P1523738商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Positive Fhotoresist ThinnerMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: P1523740商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Wafer CleanerCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: W1523742商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Wafer CleanerMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: W1523744商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
- Positive PR StripperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .受注生産 · 8～12週間 商品 #: P1523746商品を表示価格設定とパッケージサイズ
技術識別子
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技術的詳細 各製品ページの品質と仕様情報
包装寸法オプション リストから価格設定にアクセスできる複数のパッケージサイズ
研究開発用のみ 開発用の製品