Determine the necessary mass, volume, or concentration for preparing a solution.
standard ベースライン干渉を最小限に抑える必要がある、感度の高いクロマトグラフィーおよび分析ワークフロー向け。
Room temperature に出荷。正確な仕様については、ロット固有の COA をご確認ください。
SDS、COA、データシート、仕様書をダウンロードできます。ロット固有の COA はロット番号検索で入手可能です。
クロマトグラフィー、有機合成、クロスカップリング反応に関する 0 件の査読済み論文で引用されています。
Nichrome etchant is a high purity etching system that is a mixture of ceric ammonium nitrate and nitric acid. It can be used to etch the nickel and chromium alloy.Ceric ammonium nitrate-based etchant. Etches Al, Cr, Cu, Ni, GaAs. Surface oxidizes Si, Ta/TaN. Etch rate of 50 Å/sec @ 40 °C. Etches cleanly with only a deionized water rinse needed.Nichrome etchant is used in the fabrication of microheater patterns of polydimethyl siloxane (PDMS), silica (SiO2) and glass substrates, which can be further used in the fabrication of flow sensors. It may also be used to etch out nickel (Ni) from the electroplated Ni on amorphous silica wafers.For use at room temperature or elevated temperature. Etches cleanly, eliminating need for an intermediate rinse.
危険性、取扱い、保管、および規制遵守を網羅した包括的な文書。
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