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- 2-chloro-9,9-dimethyl-9H-fluoreneCAS: 382602-31-5 Formula: C15H13Cl Peso molecolare: 228.71◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: C1238454Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
Identificatori tecnici
- Nome IUPAC
- 2-chloro-9,9-dimethylfluorene
- SMILES
- CC1(C2=CC=CC=C2C3=C1C=C(C=C3)Cl)C
- InChIKey
- ANDIDBWHCQXRAM-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C15H13Cl/c1-15(2)13-6-4-3-5-11(13)12-8-7-10(16)9-14(12)15/h3-9H,1-2H3
- Positive PR DeveloperCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: P1523723Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
Identificatori tecnici
- Positive PR DeveloperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: P1523725Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Negative PR DeveloperCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: N1523728Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Negative PR DeveloperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: N1523730Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Negative PR StripperCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: N1523734Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Negative PR StripperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: N1523736Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Positive Fhotoresist ThinnerCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: P1523738Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Positive Fhotoresist ThinnerMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: P1523740Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Wafer CleanerCMOS grade ? CMOS grade — ultra-pure quality for CMOS semiconductor manufacturing. Use where the strictest metal/particle limits protect device yield.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: W1523742Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Wafer CleanerMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: W1523744Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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- Positive PR StripperMOS grade ? MOS grade — high purity for metal-oxide-semiconductor processing. Use in MOS device fabrication sensitive to mobile-ion contamination.◐ .Su ordinazione · 8–12 settimane Oggetto #: P1523746Visualizza prodottoPrezzi e dimensioni del pacchetto
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