standard para flujos de trabajo cromatográficos y analíticos sensibles que requieren una interferencia mínima de la línea base.
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Almacenamiento y envío
Room temperature Envío . Consulte el COA específico del lote para conocer las especificaciones exactas.
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Documentos de calidad
SDS, COA, ficha técnica y hoja de especificaciones disponibles para descargar. COA específico del lote accesible mediante búsqueda por número de lote.
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Prueba documental
Citado en 0 publicaciones revisadas por pares sobre cromatografía, síntesis orgánica y reacciones de acoplamiento cruzado.
Descripción general
Nichrome etchant is a high purity etching system that is a mixture of ceric ammonium nitrate and nitric acid. It can be used to etch the nickel and chromium alloy.Ceric ammonium nitrate-based etchant. Etches Al, Cr, Cu, Ni, GaAs. Surface oxidizes Si, Ta/TaN. Etch rate of 50 Å/sec @ 40 °C. Etches cleanly with only a deionized water rinse needed.Nichrome etchant is used in the fabrication of microheater patterns of polydimethyl siloxane (PDMS), silica (SiO2) and glass substrates, which can be further used in the fabrication of flow sensors. It may also be used to etch out nickel (Ni) from the electroplated Ni on amorphous silica wafers.For use at room temperature or elevated temperature. Etches cleanly, eliminating need for an intermediate rinse.
Especificaciones
Especificaciones y pureza
standard
Condiciones de almacenamiento de almacenamiento
Room temperature
Documentación
📋 Hoja de datos de seguridad (SDS)
Documento completo sobre peligros, manipulación, almacenamiento y cumplimiento normativo.
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